收藏本站    |   聯(lián)系我們    |  中文 / EN
    PECVD等離子體系統 當前位置:網(wǎng)站首頁(yè) > 產(chǎn)品展示

高溫PECVD系統

發(fā)布時(shí)間:2023-08-11  瀏覽次數:1882

設備簡(jiǎn)介:

 PECVD(等離子增強化學(xué)氣相沉積)技術(shù)是借助于等離子體的輝光放電使得含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應,從而實(shí)現薄膜生長(cháng)的一種制備技術(shù),主要用于硅的氧化物或者氮化物的沉積;高溫爐采用的是高純硅碳棒加熱的原理,可以實(shí)現高溫燒結,適用于大多數材料的熱處理以及熔煉工藝,整體采用國際先進(jìn)制造工藝,并且從美學(xué)藝術(shù)角度出發(fā),根據人體安全的角度進(jìn)行設計。它采用PLC控制,觸摸屏操作。


                         



配置詳情


主要特點(diǎn):

1、高溫燒結。

2、控制穩定可靠,操作方便,安全防護措施完善。

3、采用先進(jìn)的PID自學(xué)習模糊控制,控溫精度高,保持在±1℃。

4、爐襯采用高純氧化鋁輕質(zhì)纖維材料,保溫效果更好,節能降耗。

5、具有物聯(lián)網(wǎng)功能(WIFI),可通過(guò)手機、電腦遠程對設備進(jìn)行監控,操作。

6、數據存儲功能,可保存燒結的重要參數,時(shí)長(cháng)達30天之久(每天開(kāi)機8小時(shí))。

7、配方功能,可預存配方20條以上。

8、聯(lián)網(wǎng)功能,通過(guò)RJ45接口,采用TCP/IP協(xié)議,可以讓系統與上位機相連(上位機需安裝相應軟件)。

型號

NBD-PECVD1500-80TID3ZY

供電電源

單相220V 50HZ

控溫精度

±1℃

觸摸屏尺寸

7"

射頻頻率

13.56MHz

 射頻功率輸出范圍

0-500W

 沉積加熱額定功率

3KW

傳感器類(lèi)型

S 型φ8*180mm

沉積最高溫度

1500℃
沉積額定溫度

1450℃

推薦升溫速率

≤5℃/min

爐管材質(zhì)及規格

剛玉Φ80*1200mm 外徑*長(cháng)度(厚度)
 沉積管徑

Φ80mm*1200mm

爐膛尺寸

單個(gè)溫區長(cháng)175*高160*深140mm
PECVD外形尺寸

長(cháng)1500×高1350×深830mm

 氣氛條件

混合氣、真空等

滑動(dòng)方式 

電機驅動(dòng)同步帶

電機轉速

3-4轉每分鐘

一轉行程

114mm

推拉最大行程

 340mm 爐膛中心到線(xiàn)圈中心的距離
機械泵抽氣速率

5m3/h

爐腔極限真空度

3~5Pa

 重量

約240KG

設備細節

 

流程控制畫(huà)面


控制系統

1、燒結工藝曲線(xiàn)設置:動(dòng)態(tài)顯示設置曲線(xiàn),設備燒結可預存多條工藝曲線(xiàn),每條工藝曲線(xiàn)可自由設置;
2、可預約燒結,實(shí)現無(wú)人值守燒結工藝曲線(xiàn)燒結;
3、實(shí)時(shí)顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數據,并可導出實(shí)現無(wú)紙記錄;
4、具有實(shí)現遠程操控,實(shí)時(shí)觀(guān)測設備狀態(tài);
5、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結全程進(jìn)行非線(xiàn)性修正。 

重量

約240KG

設備使用注意事項

1. 射頻匹配器一般處于自動(dòng)匹配狀態(tài),一般功率需達到50W以上才能匹配;
2. 若采用手動(dòng)匹配,將功率設到60W左右,手動(dòng)調諧匹配合適時(shí),再增加功率
3. 工作時(shí),需改變腔體的氣流量,先要要把功率設置為零,不能直接按“OFF”按鍵關(guān)閉射頻輸出。

服務(wù)支持

一年有限保修,提供終身支持;


免責聲明:本站產(chǎn)品介紹內容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數等),僅供參考??赡苡捎诟虏患皶r(shí),或許導致所述內容與實(shí)際情況存在一定的差異,請與本公司客服人員聯(lián)系確認。本站提供的信息不構成任何要約或承諾,諾巴迪公司不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息,恕不另行通知。


   相關(guān)產(chǎn)品